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详细介绍
衬四氟半自动化釜应用领域:芯片材料研发,国防、航天应用比较广泛;物料对金属的敏感度很高,投料、反应人为干预越少越好。
产品主要技术参数
名称衬四氟半自动化釜
反应参数
产品名衬四氟半自动化釜
温度120℃
压力3MPa
搅拌磁子搅拌
材质316L
四氟PP级四氟(适用于单晶硅类的材料研发)
应用领域芯片材料研发,国防、航天应用比较广泛;物料对金属的敏感度很高,投料、反应人为干预越少越好。
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